德國(guó)Heidelberg 刻蝕機(jī) 機(jī)器視覺(jué)

標(biāo)題：供應(yīng)德國(guó)Heidelberg Instruments刻蝕機(jī) DWL 2000 GS系列

德國(guó)Heidelberg Instruments刻蝕機(jī)公司介紹：

德國(guó)Heidelberg 刻蝕機(jī)海德堡儀器是設(shè)計(jì)、開(kāi)發(fā)和制造高精度激光光刻系統(tǒng)、無(wú)掩模對(duì)準(zhǔn)器和納米加工工具的世界領(lǐng)導(dǎo)*。憑借超過(guò) 35 年的經(jīng)驗(yàn)和在*球安裝的 1,300 多套系統(tǒng)， 海德堡儀器 提供專(zhuān)門(mén)定制的光刻解決方案，以滿(mǎn)足我們**客戶(hù)的微加工和納米加工要求 - 無(wú)論多么具有挑戰(zhàn)性。在我們位于德國(guó)、瑞士和中國(guó)的過(guò)程和應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室 (PAL) 中，工程師們對(duì)我們的客戶(hù)進(jìn)行培訓(xùn)并與他們密切合作，以充分利用他們的海德堡儀器設(shè)備。 行業(yè)利益相關(guān)者，以及世界各地最著名的大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)的工作組，都使用海德堡儀器的系統(tǒng)進(jìn)行的微米和納米圖案化。應(yīng)用領(lǐng)域包括微光學(xué)和微系統(tǒng)技術(shù)、光子學(xué)、電子學(xué)、半導(dǎo)體/封裝、量子計(jì)算、MEMS/NEMS、微機(jī)械學(xué)、生物醫(yī)學(xué)工程、二維材料、物聯(lián)網(wǎng)等等。 

Heidelberg Instruments刻蝕機(jī)介紹：

德國(guó)Heidelberg 刻蝕機(jī)DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速靈活的高分辨率圖案生成器。它們針對(duì)工業(yè)級(jí)灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化，專(zhuān)為集成電路、MEMS、微光學(xué)和微流體設(shè)備、傳感器、全息圖以及**特征的掩模和晶圓的高通量圖案化而設(shè)計(jì)。專(zhuān)業(yè)灰度光刻模式可以在大面積厚光刻膠中形成復(fù)雜的 2.5D 結(jié)構(gòu)圖案。DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 系統(tǒng)具有 500 nm 的最小特征尺寸、高達(dá) 400 x 400 mm 2的寫(xiě)入?yún)^(qū)域和可選的自動(dòng)加載系統(tǒng)，特別適用于用于電信、照明的晶圓級(jí)微光學(xué)器件和工業(yè)顯示器制造，以及生命科學(xué)中的設(shè)備制造。

Heidelberg Instruments刻蝕機(jī)功能參數(shù)特點(diǎn)：

2  曝光質(zhì)量

2  CD 均勻性 60 nm；邊緣粗糙度 40 納米；對(duì)準(zhǔn)精度 60 nm；第二層對(duì)準(zhǔn) 250 nm；自動(dòng)對(duì)焦補(bǔ)償 80 µm

2  灰度光刻

2  1000級(jí)灰度；專(zhuān)用 GenISys BEAMER 軟件，用于優(yōu)化復(fù)雜幾何形狀的曝光

2  溫控流動(dòng)箱

2  溫度穩(wěn)定性 ± 0.1°，ISO 4 環(huán)境

2  曝*速度

2  灰度模式下 200 x 200 mm 2 的面積<60 分鐘

2  基板尺寸大

2  高達(dá) 20 / 40 厘米

Heidelberg Instruments刻蝕機(jī)應(yīng)用：

2  微光學(xué)

2  材料科學(xué)

2  微流體等

Heidelberg Instruments刻蝕機(jī)主要型號(hào)：

2  DWL 2000 GS 系列

2  DWL 4000 GS 系列